微观黑科技- 第一百七十三章 实验失败和改进(2/2)

是光刻，用光刻机把电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆上，而投射后硅上就形成了电路图。

再通过刻蚀机把没有被光刻胶保护的部分腐蚀掉，就在硅晶圆上形成了坑坑洼洼。

接下来就是等离子注入，将等离子注入这些坑坑洼洼，再稳定下来就形成了晶体管，这就是晶体管形成的过程。

7n芯片，看起来只有15厘米大，里面却有几十亿晶体管结构。

而且芯片的电路图可能有几十层，所以这样的过程也会重复几十次，但原理就是光刻-刻蚀-等离子注入-镀铜。

陈涵的过程却是，拿了一块硅，然后在硅内部刻画出了整个海马体、灵魂体结构，什么过程都没有经过。

现在内部的电路图虽然形成了，却根本不是晶体管。

这样能成功才真的有鬼了呢。

好在很快陈涵就醒悟过来，问题不是不可以解决，现在就是要麻烦了很多，他恐怕也得一层又一层的制作硅海马体。

在每个神经元细胞突触连接点，都用上芯片晶体管的制作办法。

本质上说，神经元细胞虽然有无数突触，可是每个突触和另一个突触相连接的地方，就是一个晶体管问题。

无论什么结构都是连接和断开，这始终是不会发生改变，所以归根结底还是0和1的问题。

这些问题刚好是晶体管可以解决的。