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面积。
许秋将有瑕疵的那片丢入旧基片盒子中。
接下来，是热退火步骤。
对于pss薄膜来说，退火的主要作用是除掉其中残留的水分，所以只需要温度比水的沸点稍高即可。
许秋将旋涂好的基片连带着培养皿，置于设定温度为130摄氏度的加热台上，然后按下秒表进行计时。
一般需要30分钟以上。
等待时间较长，许秋回到办公桌，打算喝口水，休息一会儿。
突然，旁边的学姐冷不丁的问了一句：“许秋，你对未来有什么打算呀？”
许秋差点把喝到嘴里的水喷出来。
状态提示： 第十六章 旋涂
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