可以产生大体积的金刚石薄膜。
此外，这种方法还能在曲面或者复杂表面上进行金刚石薄膜的沉积。
而且cvd法无内部电极，可以避免电极放电污染和电极腐蚀。
可以说是满足了制备高质量金刚石薄膜的条件。
但是，就像四十三所实验室的装置一样，cvd法的沉积速率是硬伤。
看完了这篇详细介绍cvd法的文献后，陈舟不禁想到。
“如果有dacvd法一半的速度，再加上cvd法的制备质量，那这事不就成了吗？”
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