重写科技格局- 第六百二十四章 早晚的事情(2/2)

2016年长光所成功研制了波像差优于0.75的两镜euv光刻物镜系统，2017年32n极紫外光euv光刻曝光系统通过验收。

2019年科益虹源成功商用的浸没式193nm准分子激光器，2020年，哈工大的dpp-euv来了。

除此之外，江大成功研发11nm制程浸没式光刻机的浸液系统，南大光电研发出193nm光刻胶，华为自研eda已进行7纳米验证。

这里还有很重要的一点，绝大部分的技术华夏都是全球第二，也是全球唯二。

也就是说不管网友怎么嘲讽华夏的光刻机技术，华夏的光刻机技术到2019年基本已经做到了全球第二。

一群在生活中可能干啥都没拿过第二的人天天嘲讽华夏光刻机技术落后，这帮人才是真不知道哪来的自信。

“孟总？”

王大岩把孟谦从未来的思绪中拉了回来，“不好意思。”

“想什么呢想的那么入迷？”

“我就是突然想到，人都喜欢光鲜亮丽的英雄，但世界往往是一群默默无闻的无名英雄在推动着。

大风集团的成功还不是因为国家有底子有人才，不然光靠我一个人，又能做的了什么呢？

所以与其说是我推了大家一把，准确来说应该是大家推了我一把才对。

我相信只要有这样一群人在，很多事情只是早一点和晚一点的区别的吧。”

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